보도자료
TOP반도체 공정진단 워크숍 개최
- 작성자최고관리자
- 작성일자2014-10-20 08:56
- 조회수1286
KRISS, 반도체 공정진단 워크숍 개최
- 국내 산학연 반도체 공정기술 전문가 정보 교류의 장 -
한국표준과학연구원(KRISS, 원장 강대임)이 10월 21일(화) 대전 리베라호텔에서 제 8회 반도체공정진단 워크숍을 개최한다.
차세대 반도체 기술의 핵심이 되는 실시간 공정 모니터링 및 분석 기술 개발을 주제로 열리는 이번 워크숍에는 관련 산학연 전문가 100여 명이 참석하며 반도체 공정 및 장비 기술 자립화를 위한 정보를 공유한다.
○ 현재 우리나라 반도체 소자제조 기술은 세계 최고 수준의 경쟁력을 갖고 있다. 하지만 반도체 공정 및 장비를 실시간으로 모니터링하고 분석하는 진단기술은 여전히 취약한 실정으로 실시간 진단기술을 통해 수율향상을 이끌어내는 것이 중요하다.
이번 워크숍에서는 KRISS에서 수행하는 국책과제인 “차세대 초박막 공정 측정기술” 성과발표회를 포함하여 ▲ 박막공정 측정기술 ▲ 박막장비 측정기술 ▲ 박막표면 측정기술 ▲ 박막증착소재 측정기술 등 박막 관련 측정기술이 논의될 예정이다.
KRISS 진공기술센터 윤주영 센터장은 “매년 개최되는 KRISS 반도체 공정진단 워크숍은 국내 반도체 공정진단기술 전문가들이 한자리에 모이는 자리로서 국내 반도체 기술 향상 및 장비 국산화를 위해 정보공유 및 기술협력이 활발히 이루어지고 있다.”고 말했다. KRISS는 2007년부터 매년 반도체공정 진단 워크숍을 개최하고 있으며 이번 행사는 8회째 행사이다.
첨부파일
-
보도자료(141020-반도체 공정진단 워크숍 개최).hwp
(0Byte / 다운로드:125)
다운로드
QUICK MENU
QUICK MENU 원하시는 서비스를 클릭하세요!
등록된 퀵메뉴가 없습니다.